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液質(zhì)聯(lián)用氮氣發(fā)生器涉及的電路設(shè)計和結(jié)構(gòu)設(shè)計方法是由儲液罐、多電解池、開關(guān)電源、氣水分離器、單向閥、干燥室、五通、壓力控制器、壓力報警器、壓力顯示表、脫氧管、開關(guān)閥,儲液罐通過流體管與多片板組成的電解池聯(lián)通,通過電化學(xué)反應(yīng)及物理吸附法,采用壓縮空氣源與多片電解組氣路聯(lián)通,可達(dá)到以普氮制氮的方法,一次提純到位可達(dá)到99.994%的高純氮。那么在使用液質(zhì)聯(lián)用氮氣發(fā)生器時需要注意些什么呢?1、由于該儀器配備的壓縮機(jī)為開路工作方式,故潤滑油會隨水排出機(jī)外,造成消耗,所以在使用一年后適當(dāng)...
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高壓氫氣發(fā)生器是有機(jī)化學(xué)實驗室和實際生產(chǎn)過程中一件非常重要的設(shè)備,不僅可以用作加氫反應(yīng)的容器,而且也可用于液體和氣體需要充分混合的場合。加氫過程由于存在有氣、液、固三相的放熱反應(yīng),欲使反應(yīng)進(jìn)料(氣、液兩相)與催化劑(固相)充分、均勻、有效地接觸,反應(yīng)器設(shè)計有多個催化劑床層,在每個床層的頂部都設(shè)置有分配盤,并在兩個床層之間設(shè)有溫控結(jié)構(gòu)(冷氫箱),以確保加氫裝置的安全平穩(wěn)生產(chǎn)和延長催化劑的使用壽命。由于反應(yīng)器使用條件苛刻,在反應(yīng)器的發(fā)展上主要圍繞提高反應(yīng)器使用的安全性。所以無論是...
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1、配制電解液:用500ml蒸餾水溶解,300型為:130g氫氧化鉀,待溶液冷卻后注入液罐,并補充蒸餾水至液位刻度。注液口應(yīng)該要位于儀器頂部,按標(biāo)志取下蓋后馬上進(jìn)行注液。工作時須保證儀器“O2"口暢通,如果儀器停止工作15天請將電解液抽出。2、將氮氣發(fā)生器輸出密封帽旋緊,接通電源線,打開按鈕開關(guān)??諝狻癆ir"工作指示燈呈黃綠色,空氣輸出壓力表指針慢慢上升到0.4Mpa;“H2"系統(tǒng)自動啟動,流量顯示為:280~380ml/min,數(shù)分鐘后,“H2"的流量顯示為“000"或接...
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1.電化學(xué)法制氮在氫氣電解池的陰極(產(chǎn)氫氣一側(cè))通入高壓空氣,在催化劑作用下,氫氣和氧氣形成微觀燃料電池,完成氧化還原反應(yīng)生產(chǎn)水,宏觀上表現(xiàn)即為空氣中的氧氣被除去,剩余氮氣。這種方法可以產(chǎn)出高99.995%的氮氣,但有幾個明顯的缺陷:一需用到高濃度氫氧化鉀溶液做電解液,這種強(qiáng)堿溶液與氣體直接接觸,對氣體質(zhì)量有潛在影響,并有隨氣路輸出的可能性;二單位成本高;三反應(yīng)過程只去除了空氣中的氧氣,其它雜質(zhì)氣體并沒有涉及,并且反應(yīng)過程對電解池制作技術(shù)要求很高,不合適的電解池制作技術(shù)會造成...
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一、引言化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeposition,CVD)和金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,MOCVD)是兩種在半導(dǎo)體制造中廣泛應(yīng)用的薄膜沉積技術(shù)。這兩種技術(shù)都需要使用高純度的氫氣作為反應(yīng)氣體。因此,CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器的操作對于保證薄膜質(zhì)量和設(shè)備安全至關(guān)重要。二、儀器簡介CVD,MOCVD專用氫氣發(fā)生器是一種能夠產(chǎn)生高純度氫氣的設(shè)備,主要用于半導(dǎo)體制造中的CVD和MOCVD過程。該...
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